第五届国际先进光刻技术研讨会 (IWAPS 2021)

发布时间:2021-05-28 阅读次数:2270

十月,来广佛山,和光刻“宗”切磋“武

 

佛山 


一个历史悠久的武术之乡

众多的武术门派发源于此

在不断的切磋中融合发展

跟随海外华人流传于世界

今年十月

佛山即将迎来一场属于光刻人的盛会


第五届国际先进光刻技术研讨会

IWAPS 2021


将于2021年10月27-29日广东佛山举办

(27日报道,28-29日参会)

欢迎大家踊跃报名,投稿

与光刻领域“宗师”们共同“切磋”

△长按识别扫码报名参会△


会议征文





本会议被IEEE收录

接收论文将被送检IEEE XploreEI


摘要提交截止日期2021年7月01日

摘要接收通知日期: 2021年7月21日

全文稿件截止日期: 2021年9月30日

投稿邮箱:iwaps_program@ime.ac.cn


IWAPS 2020 论文集

ieeexplore.ieee.org/xpl/conhome/9286788/proceeding

(请您复制网址到浏览器中打开)


征稿范围

i. Optical Lithography

ii. Extreme Ultraviolet (EUV) Lithography

iii. Advanced Patterning Technologies

iv. Metrology, Inspection and Testing

v. Design and Technology Co-optimization and Design for Manufacturability

vi. Materials

vii. Device

viii. Process


大会情况





近年来,中国集成电路产业蓬勃发展,基于这样的形势,国际先进光刻技术研讨会(International Workshop on Advanced Patterning Solutions,IWAPS)应运而生。IWAPS为来自国内外半导体工业界、学术界的资深技术专家和优秀研究人员等提供了一个技术交流平台,参会者可以就材料、设备、工艺、测量、计算光刻和设计优化等主题分享各自的研究成果,探讨图形化解决方案,研讨即将面临的技术挑战。


2017年以来,IWAPS已经在北京,厦门,南京,成都成功举办四届,会议投稿、会议报告与参会人数逐年增加,行业反响热烈,已经成为国内高端光刻技术领域的重要会议。此外,自2020年开始,IWAPS已经被IEEE Xplore收录,录用论文也会送审EI,会议学术水平同步提升。欢迎大家踊跃报名,投稿!


IWAPS 2021 会议筹备工作已经展开

更多信息,敬请关注会议官网

www.iwaps.org/cn

(点击原文链接可跳转)

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